管式热工设备 卧式炉
产品概述
专为科研机构和高校设计的小批量高精度设备，支持氧化、扩散、退火、LPCVD 等工艺，兼具生产、实验教学与工艺开发功能。
产品特点
单管小批量工艺兼容：集成扩散、氧化、退火及 LPCVD 工艺，桥接实验与量产验证。
生产型设备指标下放：保留量产设备性能，适配高校科研从理论到工程化的工艺验证。
技术指标
晶圆尺寸、工艺管数8英寸及以下 1-4管(可选)/台 |
温度范围200°C-600°C 600°C-1200°C |
温度均匀性≤±1°C |
恒温区长度200~500mm |
单点温度稳定性≤±0.5°C/24h(1100°C) |
温度斜变能力最大升温速率15°C/min |
应用场景
适用材料：硅、化合物半导体等；
核心工艺：PN 结扩散、LPCVD 薄膜沉积、高温退火；
应用领域：高校科研院所工艺研发、功率器件中试生产。
产品类别
科研版
关键词
半导体装备
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