管式热工设备 立式炉
产品概述
批式垂直结构热处理设备，适用于 8 英寸及以下晶圆的高温工艺设备，可实现扩散、氧化、退火等关键制程，特别设计为科研机构提供灵活工艺验证平台。
产品特点
高精度温控系统：实现氧化 / 退火工艺的精准温度控制，保障科研阶段工艺重复性。
高成品率设计：适配科研小批量实验需求，降低试错成本。
高可靠性与稳定性：支持长期连续运行，满足科研长时间实验需求。
技术指标
晶圆尺寸、工艺管数8英寸及以下 1-4管(可选)/台 |
温度范围200°C-600°C 600°C-1200°C |
温度均匀性≤±1°C(<800°C) ≤±0.5°C(>800°C) |
恒温区长度200~300mm |
单点温度稳定性≤±0.5°C/24h(1100°C) |
温度斜变能力最大升温速率15°C/min |
应用场景
适用材料：硅、化合物半导体等；
核心工艺：干氧氧化、湿氧氧化、惰性气体退火；
应用领域：半导体器件隔离层制备、表面钝化层工艺、VCSEL 芯片制造。
产品类别
科研版
关键词
半导体装备
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