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提供从器件研发到批量生产的全流程装备解决方案
管式热工设备 立式炉
批式垂直结构热处理设备，适用于 8 英寸及以下晶圆的高温工艺设备，可实现扩散、氧化、退火等关键制程，特别设计为科研机构提供灵活工艺验证平台。
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管式热工设备 卧式炉
专为科研机构和高校设计的小批量高精度设备，支持氧化、扩散、退火、LPCVD 等工艺，兼具生产、实验教学与工艺开发功能。
PVD 磁控溅射镀膜机
基于射频放电原理的干法刻蚀设备，通过物理轰击与化学反应结合实现材料去除，适用于多种半导体材料刻蚀。
干法刻蚀 反应离子刻蚀机(RIE)
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