艾科威半导体:以国产装备赋能半导体全产业链革新

2025年09月03日 11:36

01 十七年积淀:国产装备硬实力

艾科威的技术根基可追溯至2007年启动的半导体装备研发团队,历经八年技术沉淀与行业深耕,于2015年正式注册成立湖南公司,现已成长为国家级高新技术企业。组建了由资深专家领衔的核心技术团队,汇聚了国内顶尖科研机构的技术力量,形成了覆盖集成电路、分立器件、5G通信、光电器件、传感器等全领域的研发与生产能力。

公司建成1500平米万级净化车间与1000平米千级净化实验室,构建从器件研发到批量生产的全流程解决方案体系。截至2025年,累计获得60+项专利及软著(含10项授权发明专利),突破多项国外技术封锁;通过ISO9001质量管理体系认证和SEMIS2安全认证,设备性能与稳定性达国际一流水准。目前已服务华为、中车、中电科等300+企业,科研客户覆盖90%以上半导体领域“双一流”高校。

 

02 设备矩阵:解锁核心工艺

立式氧化扩散退火炉

设备特点:

高精度湿度(氧化)温度控制:采用专业温控系统,精准调控中区间温度,可选全自动化机台与手动机台,既满足高效生产,也能兼顾小批量创新研发。

先进颗粒污染防控:千级组装车间,EP级管道,搭配高效净化技术,减少工艺过程中的颗粒干扰,保障硅片界面质量。

高可靠性系统设计:设备运行稳定,满足光电器件制备的精密工艺要求。

应用场景:

适用材料:硅、铌酸锂、化合物等半导体基片。

适用工艺:主要用于进行氧化、扩散、退火(包括合金退火)和化学气相沉积(LPCVD)等工艺。

卧式氧化扩散退火炉

设备特点:

多工艺组合灵活配置:支持氧化、扩散、退火等多种工艺切换,适配多样化需求。

成熟稳定的设备架构:经过市场验证的设计,保障长时间可靠运行。

高可靠性工艺输出:满足半导体材料电学特性调控与器件结构制备需求。

应用场景:

适用材料:硅、碳化硅等半导体材料。适用工艺:主要用于进行氧化、扩散、退火(包括合金退火)和化学气相沉积(LPCVD)等工艺。

PVD磁控溅射镀膜机

设备特点:

高精度温度控制能力:基片台温控适配不同材料薄膜沉积的温度需求。

先进颗粒污染防控:腔体设计减少镀膜过程中的颗粒干扰,提升薄膜纯净度。

大产能与自动化集成:适配批量生产,支持金属、介质等多种材料薄膜制备。

应用场景:

适用材料:硅、化合物半导体、陶瓷、石英等基底。

适用工艺:磁控溅射镀膜,用于制备金属(如Al、Au)、介质(如 SiO₂、ITO)薄膜。适用领域:集成电路电极制备、光电器件薄膜沉积。

反应离子刻蚀机(RIE)

设备特点:

数字化智能控制:工艺过程全数字化自动控制,操作简便易上手。

恒压自动控制:反应压力恒定自动调节,保障工艺重复性与稳定性。

可配置loadlock上料腔:减少大气污染,提升上料效率与腔体真空保持能力。

应用场景:

适用材料:硅、二氧化硅、氮化硅等;

核心工艺:晶体管栅极刻蚀、MEMS 结构加工、接触孔刻蚀;

应用领域:集成电路制造、微机电系统、光电子器件。

离子束刻蚀机(IBE)

设备特点:

双模式工件台:单片式(角度-90至90°可调)与多片式(圆周旋转),适配科研与量产需求。

水冷低温刻蚀:水冷式工作台设计,稳定控温实现晶片低温刻蚀,有效降低热损伤风险。

应用场景:

适用材料:金属、陶瓷、化合物半导体、石英等;

核心工艺:硬脆材料刻蚀、纳米结构加工、离子铣削;

应用领域:光电子器件、量子芯片、微纳光学元件。

激光封焊机

设备特点:

高可靠激光源:进口灯泵浦YAG固体激光器,性能稳定。

精密CNC工作台:精密导轨+交流伺服电机,控制精准。

柔性轨迹编程:可根据工件的形状进行焊接轨迹编程

多工件阵列系统:焊接前进行焊接轨迹模拟演示,实现焊接全程自动控制

多工件阵列系统:支持批量焊接,提升生产效率。

应用场景:

适用材料:可伐合金、不锈钢等金属壳体等;

核心工艺:惰性气体保护激光焊接、气密性封装;

应用领域:TR 组件、传感器、光通讯模块封装。

03 微纳平台:工艺装备协同落地

艾科威搭建1000㎡千级净化微纳加工实验室,集成氧化退火炉、扩散炉、磁控溅射镀膜机等核心设备,配套布鲁克DEKTAK XT台阶仪、Filmetric F20光学膜厚仪、RTS-9四探针方阻仪、晶萃光学红外显微镜等测试仪器,支持氧化、扩散、退火、PVD CVD薄膜沉积、刻蚀工艺等验证,并支持与客户合作进行工艺共研和设备协同开发。
平台面向高校、科研院所及半导体企业,提供工艺认证服务——通过晶圆扩散、氧化、退火及金属/介质薄膜制备等工艺验证,为设备量产前的参数优化、稳定性测试打造“工业级试错场”。

秉持“工艺牵引装备研发”理念,团队将工艺需求深度融入设备设计:既实现晶圆级工艺的精准复现(如晶格缺陷修复、薄膜均匀性控制),也能针对量子芯片、MEMS等前沿场景,定制“设备+工艺”一体化解决方案,助力客户缩短研发周期、降低试错成本,加速技术从实验室到产线的转化。

04 设备矩阵:解锁核心工艺

客户群体

科研与教育:覆盖国防科技大学、南京大学等90%以上半导体领域“双一流”高校,支撑前沿器件研发。

工业客户:服务华为、中车、中电科等300余家企业,设备已在头部晶圆厂等主流半导体制造企业产线实现稳定应用 。

战略合作

与卓胜微电子、光迅科技等龙头企业共建“装备-工艺-材料”协同创新生态,联合攻关第三代半导体(碳化硅、氮化镓)设备、2.5D/3D 先进封装装备等“卡脖子”技术。

05 设备矩阵:解锁核心工艺

艾科威正加速布局第三代半导体设备、量子芯片关键工艺装备,并设立苏州子公司开拓华东市场,计划三年内启动海外布局。通过博士创新工作站与国家级研发平台建设,公司将持续以国产装备赋能半导体全产业链,为中国半导体产业自主化注入强劲动能。