发布时间：
2023/05/29 21:31
锂能科技是一家从事锂电池负极材料专业化厂家，成立于2000年，主营锂离子电池人造石墨产品的研发、生产和销售，是国内为数不多拥有成熟的人造负极材料箱式炉石墨化技术生产企业；在2012年自主成功研发出箱式炉石墨化技术，以代替传统坩埚炉相比，降低能源消耗，提高设备利用率。实验电炉包括（箱式炉、管式炉、立式炉、升降炉、熔块炉、真空炉、气氛炉）等，主要用于大专院校、研
发布时间：
2023/05/22 21:26
单晶硅刻蚀用于形成浅沟槽（STI），电容器的深沟槽。单晶硅刻蚀包括两个工艺过程:突破过程和主刻蚀过程，突破过程使用SiF4和NF气体，通过强离子轰击和氟元素化学作用移除单晶硅表面的氧化层；主刻蚀则一般采用溴化氢（HBr）为主要刻蚀剂，溴化氢在等离子体中分解释放溴元素自由基,这些自由基和硅反应形成具有挥发性的四溴化硅（SiBr4）。单晶硅刻蚀通常采用电感耦合等
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2023/05/15 21:42
等离子体刻蚀机根据等离子体产生和控制技术的不同而大致分为两大类，即电容性等离子体（CCP）刻蚀机和电感性等离子体（ICP）刻蚀机。CCP刻蚀机主要用于电介质材料的刻蚀工艺，ICP刻蚀机主要用于硅刻蚀和金属刻蚀。金属刻蚀主要用于金属互连线铝合金刻蚀，制作钨塞；介质刻蚀主要用于制作接触孔，通孔，凹槽；硅刻蚀主要用于制作栅极和器件隔离沟槽。介质刻蚀一般为电容耦合等
发布时间：
2023/05/08 21:46
干法刻蚀在半导体刻蚀中占主流地位，ICP与CCP是应用最广泛的刻蚀设备。刻蚀是使用化学或者物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀，干法刻蚀市场占比超90%。干法刻蚀也称等离子刻蚀，是使用气态的化学刻蚀剂去除部分材料并形成可挥发性的生成物，然后将其抽离反应腔的过程。等离子体刻蚀机根据等离子体产生和控制技术的不同而大致分为两大
发布时间：
2023/05/01 21:40
半导体设备虽然只有600亿的市场规模，不到整个芯片产业的，但在整个芯片行业的角色却非常关键。想要建立一套半导体生产线，最关键的四大设备分别是：光刻机、等离子刻蚀机、化学薄膜设备和检测设备。值得一提的是，在刻蚀环节，国产设备占比高于国外设备，主要得益于、、的放量。其中，中标6台设备，包括电感耦合等离子体刻蚀机、高密度等离子体刻蚀机等；中标10台设备，涉及金属等
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2023/04/24 21:46
半导体设备按照制造环节可以分为前道晶圆制造设备、封装设备。前道设备主要有光刻机、刻蚀机、薄膜设备等；后道封装设备主要有测试机、分选机、探针台等。离子束溅射刻蚀又称离子束刻蚀或离子铣。与主要依赖化学反应的等离子体刻蚀系统不同，离子束刻蚀是一个物理工艺。晶圆在真空反应室内被置于固定器上，向反应室导入氩气流；氩气受到从一对阴阳极来的高能电子束流的影响，氩原子被离子
发布时间：
2023/04/17 21:36
干法刻蚀在半导体刻蚀中占主流地位，ICP与CCP是应用最广泛的刻蚀设备。刻蚀是使用化学或者物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀，干法刻蚀市场占比超90%。干法刻蚀也称等离子刻蚀，是使用气态的化学刻蚀剂去除部分材料并形成可挥发性的生成物，然后将其抽离反应腔的过程。等离子体刻蚀机根据等离子体产生和控制技术的不同而大致分为两大
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2023/04/10 21:35
真空镀膜技术在消费电子行业有着广泛应用，如显示面板的生产过程中，玻璃基板要经过多次磁控溅射镀膜形成ITO玻璃，再经过镀膜覆盖，加工组装用于生产液晶显示器的显示面板。另外，消费电子产品中的金属结构件、摄像头、玻璃应用等均需要真空镀膜工艺。手机终端设备产品所处的消费电子产业是中国当前着重培育和发展的战略新兴产业，受国家多项政策支持。根据统计，2021年，中国智能
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2023/04/03 21:48
公司技术和科研人员专注于PVD(物理气相沉积)镀膜技术二十余年，成功研制出高品质真空镀膜设备，主要产品有：磁控溅射镀膜机，多弧离子镀膜机，大弧镀膜机，手机壳专用磁控镀膜机，硬质合金工具专用镀膜机，DLC涂层镀膜机，电阻辊筒镀膜机，2700型光学镀膜机，大容量装饰镀膜机，五金连续生产线，玻璃连续生产线，以及各类真空核心部件，如真空泵，真空阀门，质量流量计，大功
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2023/03/27 21:56
主要生产制作：塑料及玻璃行业，真空镀膜上油机，UV涂装生产S线/隧道线/悬挂线，后视镜玻璃异形/圆形磨边抛光机，后视镜真空镀膜机，塑料件镀膜机，镀金机，磁控溅射真空镀膜机，离子镀膜机，后视镜热弯炉，全自动玻璃曲直线高速切割机，拼镜专用切割机，玻璃处理机，烘干箱，油漆流平机，真空镀膜染色机，淋漆机，精密辊涂机等玻璃及塑料行业流水生产线深加工电子机械设备。公司目
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