图片名称

关于离子束刻蚀机去了解一下

发布时间:

2021/09/15 00:00

半导体设备按照制造环节可以分为前道晶圆制造设备、封装设备。前道设备主要有光刻机、刻蚀机、薄膜设备等;后道封装设备主要有测试机、分选机、探针台等。

离子束溅射刻蚀又称离子束刻蚀或离子铣。与主要依赖化学反应的等离子体刻蚀系统不同,离子束刻蚀是一个物理工艺。晶圆在真空反应室内被置于固定器上,向反应室导入氩气流;氩气受到从一对阴阳极来的高能电子束流的影响,氩原子被离子化,变为带正电荷的高能状态,被吸向固定器。当氩原子向晶圆固定器移动时,它们会加速冲击暴露的晶圆层,并将晶圆表面轰击掉一小部分。

由此可见,半导体在5nm以内的刻蚀机,都是由客户大量购买的。此外,也在研发新一代刻蚀设备,可应用于5nm以下的晶片。

面对老辣的行业巨头,在的带领下从容应对,与打了11年的专利官司未尝败绩。而且,花费很短的时间,就生产出我国首台自主研发的等离子体刻蚀机,如今已经是世界前五刻蚀机供应商。业内表示,帮助克服层层阻碍,让国人看到祖国芯片的未来。

离子束溅射刻蚀又称离子束刻蚀或离子铣。与主要依赖化学反应的等离子体刻蚀系统不同,离子束刻蚀是一个物理工艺。晶圆在真空反应室内被置于固定器上,向反应室导入氩气流;氩气受到从一对阴阳极来的高能电子束流的影响,氩原子被离子化,变为带正电荷的高能状态,被吸向固定器。当氩原子向晶圆固定器移动时,它们会加速冲击暴露的晶圆层,并将晶圆表面轰击掉一小部分。

不过长久以来,大多数网友都没听过的鼎鼎大名,这与媒体选择性渲染光刻机的卡脖子问题不无关系,直接导致了大众忽视了刻蚀机的重要性,实际上,在芯片制造流程中,有三大最主要生产技术,分别为光刻技术、刻蚀技术与薄膜沉积技术,对应得设备为光刻机、等离子体刻蚀机与薄膜机,这些主要生产设备缺一不可,而薄膜机目前不存在卡脖子问题,刻蚀机已经实现自主,早就具备了5nm高端芯片的刻蚀条件,、等都是的客户,所以说国内无法生产制造出设计的高端麒麟芯片,其实只说对了一半——我们已经搞定SoC的自主刻蚀了,而完成这历史性一步,的功臣,便是。

查看更多...

免责声明:内容转发自互联网,本网站不拥有所有权,也不承担相关法律责任。如果您发现本网站有涉嫌抄袭的内容,请转至联系我们进行举报,并提供相关证据,一经查实,本站将立刻删除涉嫌侵权内容。

全国热线电话

0731-88376310

地址:长沙市望城经济技术开发区普瑞西路858号   

手机:13574134080(李经理)15111237996(戴经理)13337218692(陈经理)
传真:0731-88376310

邮箱:exwell@exwellsemi.com

二维码
  • 客服热线

    客服热线

    0731-88376310

  • 关注我们

    微信咨询

  • 返回顶部