管式真空炉


管式真空炉是在原有管式炉的基础上,增加真空系统,使客户获得高洁净腔体,提供清洁无杂质的高真空状态,加热温度均匀且能够精确控制,特别适用于半导体器件或其他对环境要求高的材料的退火工艺,工件质量优良,成品率高。

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管式炉系列


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管式真空炉

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设备特点
●外形美观,占地面积小
●采用高精度、多功能温控仪,可自动调节与修改PID参数,存储控温曲线并可随时修改、删除以及重新设定,操作简单方便
●具备多项故障显示,报警及连锁保护功能
●炉体可以移动推拉,以加速低温段的降温
 
技术指标
●适用工艺片尺寸:2~8英寸圆片或方片
●常用工作温度:400~1000℃
●恒温区长度及精度:≤±0.5℃/400~800mm   (600~1000℃);
          ≤±1℃/400~800mm   (300~600℃)
●最大升温速率: 10℃/min 
●极限真空度:≤5×10-3Pa;
●气路系统:氧气、氮气、氩气;
 
应用范围
  用于陶瓷电路、传感器烧结及退火处理、永磁合金制造、真空钎焊、真空除气、金属材料的无氧化光亮热处理等工艺。

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