





扩散氧化炉(科研型)
本设备为科研型扩散氧化炉,适用于企业研发、大学及科研院所的科研与教学。可满足闭管干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散、退火常压、退火/推进、合金等工艺。

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设备特点
●可满足闭管干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散、退火常压、退火/推进、合金等工艺
●采用高可靠性工控机+PLC模式,对炉温、进退舟、气体流量、阀门进行全自动控制,实现全部工艺过程自动化;
●具有友好的人机界面,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;
●具有多种工艺管路,可供用户方便选择;
●具有强大的软件功能,配有故障自诊断软件,可大大节省维修时间;
●恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度;
●具有超温、断偶、热偶短路、工艺气体流量偏差报警和保护功能;
●可根据用户要求定制产品。
技术指标
●适用晶片尺寸 : 2~8英寸圆片
●工作温度: 600℃~1300℃;
●可配工艺管数量:1~2管/台
●恒温区长度及精度:≤±0.5℃/300~600mm (800℃~1300℃),
● 单点温度稳定性:≤±0.5℃℃ /24h (1100℃);
●温度斜变能力:最大升温速率20℃/min,最大降温速率5℃/min;
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